Scaler HK430主要用于12英寸高介电常数质料薄膜的沉积工艺。装备能够实现优异的工艺稳固性控制，告竣更好的薄膜沉积匀称性及优异的颗？刂铺逑。在结构系统方面，接纳每腔单片式设计，在气流chang匀称性、温度控制等方面体现优异，单片工艺效果一致性大幅提高；在软件方面，通过全自动流程及相关数据监控、清静互锁设定等为实现稳固量产提供更好的运行情形。