主要用于12英寸先进制程领域中氧化硅选择性刻蚀工艺。装备接纳化学气相刻蚀手艺，具有高刻蚀匀称性、高选择比、低损伤、工艺控制精度高等特点。主要由大平台传输系统、主工艺腔、退火腔、工艺控制系统等组成，系统稳固、高效、产能高。普遍应用逻辑、存储等先进制程领域
