NMC612E 是用于12英寸硅片的等离子体干法刻蚀装备，适用于关jian手艺节点的逻辑芯片硅刻蚀工艺， 关jian手艺节点的3D-NAND硅刻蚀和台阶刻蚀工艺，以及关jian手艺节点 DRAM制程中的导体和金属掩膜刻蚀工艺
