NMC612C应用于12英寸干法刻蚀工艺，深耕成熟Logic、CIS、BCD以及Power等领域，已在客户端稳固量产十年，有成熟BKM。主要应用为浅沟槽隔离刻蚀，栅极刻蚀、侧墙刻蚀等制程，具有富厚的工艺调试手段、较高的刻蚀匀称性以及量产稳固性。
