Hesper PN430R Ⅱ主要用于12英寸栅极氮化工艺。gai机台为多腔集群装备，能够举行全自动并行工艺处置赏罚。工艺？榻趸璧奶焐、等离子氮处置赏罚及快速热退火三腔体举行集成，这三个腔体接纳一个配合的晶圆传输平台，在一个机台上实现了栅的氧化、等离子体氮处置赏罚及快速退火，极尽可能地抑制了氮向沟道及绝悦魅栅、沟道界面的渗透，有用地zeng大了绝悦魅栅介电常数而且降低了有用绝悦魅栅厚度。