Esther/Eris 系列为单片常/减压式硅外延装备，适用于6/8英寸的硅外延工艺。Esther系列能够实现常压及减压条件下硅基质料的外延生长，并使用红外加热系统将工艺腔室承片基盘（石墨基座）温度稳固在特定温度规模内，配合高匀称度的气体流量控制，实现晶圆规格6/8英寸、硅基外延层生长的硅基质料化学气相外延及准确可调N型、P型掺杂。gai装备智能化人机交互设计与高效的清静互锁保障了系统清静和稳固。