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半导体装备 Semiconductor

WE3102

12英寸槽式洗濯装备

WE3102 12英寸槽式洗濯装备

WE3102 12 Inch Wet Bench Clean Tool

主要用于集成电路、新兴应用等领域12英寸洗濯工艺。接纳？榛⒊叨然杓疲憧突Ф嘀止ひ沼τ眯枨螅患啥喙πб┮翰，刻蚀速率控制精准；应用先进的低压干燥手艺，实现优异的干燥效果。

装备特点

产物应用

晶圆尺寸
12英寸
适用质料
光阻、单晶硅、多晶硅、氧化硅、氮化硅、金属膜、金属氧化物
适用工艺
炉前洗濯、刻蚀 / 抛光后洗濯、光阻去除、金属氧化物去除、氮化物去除、控挡片接纳
适用领域
集成电路、新兴应用

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