本产物主要应用于12英寸集成电路（IC）领域低温退火工艺。gai机台为立式单腔炉管系统，兼容多类型Wafer传输，并具有稳固的机台体现，Uptime高。工艺处置赏罚历程实现了高度自动化，具有可靠的氢气工艺糰n砟芰。其工艺笼罩率高，普遍应用于集成电路、先进封装等领域。
