本产物主要应用于6/8英寸集成电路（IC）及化合物领域 中高温氧化及退火工艺。gai机台为批式热处置赏罚装备，具有片内匀称性好、自动化水平高、系统性能稳固的特点，可以知足大规模集成电路生产线要求。主要由工艺腔室、传输系统、气体分配系蚦hang⑽财低澈臀露瓤刂葡低车茸槌。可以实现干氧、湿氧和掺氯氧化工艺及退火工艺，最高支持1200℃工艺。